“已知／不确定”杨昊个展于央美揭幕（组图）
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2016年11月4日，“已知/不确定”杨昊个展在中国中央美术学院揭幕。
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杨昊出身于央美版画专业，在长达6年的版画创作中，大量的运用照相制版渐渐使他形成了对照片个人化的解读方式，同时结合一些数字化媒介的技术，在日常的照片中获得了很多新奇的视觉元素，只有将这些元素从照片中抽离出来后我们才会意识到它们的存在，而真正让他感兴趣的是利用这些元素的不确定性构成的新的已知。
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本次展览展出的是他在现阶段利用现成图像对绘画语言的新的探索，展览十分完整的呈现了艺术家整个创作的思路，从草稿的构思到最终完整作品的展示。
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艺术家杨昊表示做版画的人通常习惯计划先于行动，而艺术何尝不是更期待意外。将明确的已知变为一种不确定，亲手构建一种秩序再随着绘画的动作将它消解到无序的形色中。
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